机械设备
半导体用臭氧发生器清洗刻蚀硅晶片RCA清洗光刻胶显影并去除

山东志伟环保科技有限公司

牛凯15020005361拨打电话我要认领
半导体用臭氧发生器;硅晶片;SiO2;光刻工艺;光刻胶显影并去除;单晶片清洗...
访问537次,文章15
半导体用臭氧发生器清洗刻蚀硅晶片RCA清洗光刻胶显影并去除
2025-07-23 07:23
品牌:志伟能源
外形尺寸:850mm
电源:220/50
噪音:98dB
长度:160cm
工作压力:0.098MPa
功率:10W
型号:ZW-D-S10_500
材质:不锈钢
结构形式:立式
是否支持加工定制:是
用途范围:半导体清洗刻蚀
曝气设备种类:曝气盘
发货地:济南
可售卖地:北京;天津;河北;山西;内蒙古;辽宁;吉林;黑龙江;上海;江苏;浙江;安徽;福建;江西;山东;河南;湖北;湖南;广东;广西;海南;重庆;四川;贵州;云南;西藏;陕西;甘肃;青海;宁夏;新疆







TA的主页
拨打电话